平面反射陣單元仿真

我建模一個微帶平板反射陣的單元，利用波導模擬器法模擬無限周期結構（空氣盒左右壁為PEC，前后壁為PMC，在空氣盒上端采用波端口模擬平面波照射，Deembed到貼片處，如第一個圖所示），我想觀察隨微帶貼片尺寸L變化的S11相移曲線，但是發現曲線會有抖動，不光滑，于是改變空氣盒的高度（波端口的位置），如第二個圖所示，相移曲線隨空氣盒高度有些變化。現在很不明白，這個相移曲線為什么會與波端口位置有關？想請問這種情況，空氣盒應該設為多高呢？急求解答，萬分感謝！ 

描述:單元模型，采用波端口激勵

圖片:1.jpg

描述:隨貼片尺寸變化的S11相移曲線

圖片:QQ截圖20130505201427.jpg

 

網友回復:

如果硬件條件允許 把空氣腔高度調高一點；我用的是比較暴力的3倍波長。。 

網友回復:

 
嗯，我試一下，請問一下，為什么會與空氣高度有關呢？

網友回復:

最初的HFSS10左右的時候要在頂上加PML層。足夠大的空氣腔高度是要滿足遠場環境。

網友回復:

 
特別感謝，確實是要加高空氣腔高度。嗯~在頂上加PML層不是另一種模擬無限周期結構的方法——主從邊界法嗎？不限于hfss版本吧？

網友回復:

我一直用的是Floquet port+ Master/Slave boundaries。在沒有這個之前，PEC+PMC boundaries+Waveport/Plane Wave+PML是常用的仿真方法哈。

網友回復:

看了效果不錯

網友回復:

kankan.....

網友回復:

沒放過這個，不過看見了就瀏覽下

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